Tokyo Electron 3D80-000762-21匹配器模块

TEL Tokyo Electron  3D80-000762-21匹配器模块

1.产 品 资 料 介 绍：

产品名称：

Tokyo Electron 3D80-000762-21 匹配器模块（Matching Network Module） 是半导体制造设备中用于射频（RF）功率传输和阻抗匹配的关键组件，主要应用于等离子体蚀刻和沉积设备的 RF 系统中。该模块确保射频能量高效传递到反应腔体，优化等离子体稳定性和工艺一致性。

一、产品功能定位

• 模块类型：射频匹配网络模块

• 主要功能：

  • 调整射频输出端的阻抗，实现源极与负载的最佳匹配；

  • 最大限度减少反射功率，提高 RF 能量传输效率；

  • 保护射频功率源，避免过载和损坏；

  • 支持自动或手动匹配调整功能。

二、主要应用领域

1. 等离子体蚀刻设备

• 维持腔体内等离子体的稳定性；

• 确保 RF 电源与负载之间的最佳功率传输；

• 适应不同工艺气体和腔体条件下的阻抗变化。

2. 化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）系统

• 优化射频等离子体生成，提升膜层均匀性和质量；

• 保障高频电源的安全运行。

3. 等离子增强工艺（PECVD、RIE）

• 动态调整匹配参数，满足多工艺切换需求。

英文资料：

The Tokyo Electron 3D80-000762-21 Matching Network Module is a key component used for radio frequency (RF) power transmission and impedance matching in semiconductor manufacturing equipment, mainly applied in RF systems of plasma etching and deposition equipment. This module ensures efficient transfer of RF energy to the reaction chamber, optimizing plasma stability and process consistency.

1、 Product functional positioning

Module type: RF matching network module

Main functions:

Adjust the impedance of the RF output terminal to achieve optimal matching between the source and load;

Minimize reflected power and improve RF energy transmission efficiency;

Protect the RF power source to avoid overload and damage;

Support automatic or manual matching adjustment function.

2、 Main application areas

1. Plasma etching equipment

Maintain the stability of the plasma inside the cavity;

Ensure optimal power transmission between RF power supply and load;

Adapt to impedance changes under different process gases and chamber conditions.

2. Chemical vapor deposition (CVD) and physical vapor deposition (PVD) systems

Optimize RF plasma generation to improve film uniformity and quality;

Ensure the safe operation of high-frequency power supply.

3. Plasma enhanced processes (PECVD, RIE)

Dynamically adjust matching parameters to meet the requirements of multi process switching.

2.产      品      展      示      

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